IMC圆形离子源
可用于惰性及反应气氛环境下，工作电流可达90mA，工作电压可达3000V。应用领域包括半导体、基板预清洗、离子辅助(ITO和Ag辅助沉积)、刻蚀/纳米纹理/去涂层、PACVD-DLC沉积及离子束沉积等。
ü 反转磁控离子束
ü 自中和离子束
ü 较宽的工作压力范围（E-4到E-3mbar）
ü 可调整角度
ü 稳定的离子束电流和离子能量分布
ü 反馈控制
ü 可工作于多种工作气体
ü 没有污染 .
