采用闭式循环控制，通过监测反应溅射的状态，获取监测信号并处理反馈控制信号。控制优化反应溅射的状态，从而获得最佳的沉积速率与膜层质量。目前有2通道和8通道两个型号。

Speedflo 有多种监测方式及控制方式可选：

ü  Target voltage靶电压

ü  Lambda sensor气体分压

ü  PEM等离子发射光谱                               

ü  PEM CCD全光谱

ü  Remote PEN(Penning PEM)远程等离子体发射光谱（潘宁规）

ü  HIPIMS

Gencoa开发的Speedflo simulator具有动态仿真功能，可以模拟如增益参数、校准参数和系统参数等，是一款非常高效地调整工艺参数的有效软件。

Gencoa 已开发出Speedflo Autotuner具有自动调整工艺参数的功能，可辅助进行快速工艺调试。