RPS/RPG 等离子体发生器

提高半导体和LCD生产效率的环保型Remote Plasma Source（Remote Plasma Generator）是远程高密度等离子体发生器产品，用于半导体和LCD制造工艺的气相沉积工艺后，供给氟（F RADICAL）来清洗沉积在腔体内部的硅。

随着工艺的进行，在腔体内部表面会沉积大量的硅粉尘。以目前的腔体清洗技术通过远程等离子体（Remote Plasma）提供大量氟（Fluorine）对真空条件下的腔体进行蚀刻清洗。

远程等离子体清洗方式是在等离子体发生器与腔体分离的状态下间接生成等离子体，因此不损伤腔体并快速清洗薄膜。400kH高输出高效率的高频电源装置与利用铁氧体磁芯的高密度等离子体源相结合组成的等离子体发生装置可以生成密度提升100~1000倍的高密度等离体子。

产品特点

  环保，PFC气体减少95%

  非必要排气（停机时间最小化）

  无颗粒

  较宽压力范围操作

  超轻等离子体室

  各种显示窗口

  通过电子匹配器设置功率功能

  可利用各种点火气体

  高蚀刻速率