德国Melec公司成立于1998年，公司专注于开发和生产电源脉冲发生器，凭借在电力电子和薄膜技术领域接近20年的经验，Melec产品在研发和工业领域都得到了广泛的应用。
Melec的电源脉冲发生器可实现多种用途，凭借现有的直流电源配上Melec的电源脉冲发生器即可实现单极脉冲、双极脉冲、偏压以及HiPIMS高能脉冲电源等功能。Melec的电源脉冲发生器工作稳定且设计灵活，目前已经在欧洲、美国、中国以及日本等地申请了专利，并且公司已经通过了ISO9001认证。
NiCr靶使用直流及HiPIMS晶体结构对比
以HiPIMS高能脉冲为例，相较于直流电源，离化率更高，沉积的薄膜附着力更好，从上图可以看出，直流电源沉积出的为柱状结构，而HiPIMS电源沉积出的为玻璃状结构，膜层更致密。
Melec的电源脉冲发生器主要分为研发领域使用的SIPP2000系列以及工业领域使用的SPIK系列，其中SIPP2000系列分为单极和双极两种，SPIK系列分为SPIK1000A、SPIK2000A和SPIK3000A三种。SPIK系列涵盖的功率范围可从0.5KW到30KW。
Melec最新推出的SPIK3000A基本性能参数如下：
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项目
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规格参数
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直流电源功率输入
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10KW,20KW,30KW
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直流电源电压输入
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最大1000V
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直流电源电流输入
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最大50A
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脉冲输出电压
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最大1000V
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脉冲输出电流
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最大1000A(峰值)
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认证
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CE认证
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下方为Melec电源脉冲发生器的简单工作原理：
Melec电源脉冲发生器，除了单独产生脉冲之外，也可进行叠加使用，根据不同的应用以及不同的基材等，进行各种不同的叠加。
对于单靶或者单弧源来说，可以进行直流和单极HiPIMS高能脉冲、直流和单极脉冲以及单极脉冲和单极HiPIMS高能脉冲叠加，实现共溅射的功能。
直流和单极HiPIMS高能脉冲叠加
对于双靶来说，可以进行更多种的叠加，比如双极脉冲和双极HiPIMS高能脉冲、单极脉冲和双极HiPIMS高能脉冲(Bias偏压同步)、双极HiPIMS高能脉冲/双极脉冲和单极脉冲(Bias偏压同步)、单极HiPIMS高能脉冲/双极脉冲和单极脉冲(Bias偏压同步)、双极HiPIMS高能脉冲和RF(Bias偏压同步)以及单极HiPIMS高能脉冲和RF(Bias偏压同步)叠加等。
双极脉冲和双极Hipims高能脉冲叠加
